Упругие отражения и рассеяние бомбардирующих электронов в приповерхностной области кристалла

Abstract

Наиболее эффективным способом модификации поверхности материала для обеспечения тре- буемых свойств изделия (антикоррозионных, износостойких и др.) является нанесение тонкопленоч- ных покрытий, например, вакуумных ионно-плазменных покрытий. Свойства покрытия определяют- ся свойствами материалов покрытия и подложки (материала, на который наносится покрытие). Стабильность покрытий во времени определяется, наряду с другими факторами, совместимостью материалов покрытия и подложки по физическим, кристаллохимическим, химическим и другим свойствам. В связи с этим возникает необходимость исследования физических свойств материалов, в особенности, в приповерхностных областях. В настоящей работе исследуются упругие отраже- ния и рассеяние бомбардирующих электронов в приповерхностных слоях кристалла в классической постановке.