BSTU DSpace logo

Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1788
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorНарцев, В. М.-
dc.contributor.authorАгеева, М. С.-
dc.contributor.authorПрохоренков, Д. С.-
dc.contributor.authorЗайцев, С. В.-
dc.contributor.authorКарацупа, С. В.-
dc.contributor.authorВащилин, В. С.-
dc.date.accessioned2018-10-02T11:46:44Z-
dc.date.available2018-10-02T11:46:44Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.urihttp://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1788-
dc.descriptionВлияния условий осаждения высококачественны-х ALN и SIC на характеристики покрытий / Нарцев В. М. и [др.] // Вестник БГТУ им. В. Г. Шухова. - №6. - С. 168-172.ru_RU
dc.description.abstractВ работе на базе оборудования Центра высоких технологий (ЦВТ) БГТУ им. В.Г. Шухова были проведены первичные исследования влияния условий осаждения из магнетронной плазмы покрытий на их основные характеристики. Установлено, что увеличение доли О2 ведет к уменьшению скорости осаждения. Шероховатость покрытий закономерно увеличивается при снижении общего давления из-за более интенсивной кристаллизации и удаления подложки от мишени из-за формирования островковой структуры.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherИздательство БГТУ им. В.Г. Шуховаru_RU
dc.subjectмикроэлектронникаru_RU
dc.subjectЦВТ БГТУ им. В.Г. Шуховаru_RU
dc.subjectтонкие пленки АlN и SiСru_RU
dc.subjectсканирующий электронный микроскопru_RU
dc.titleВлияния условий осаждения высококачественных ALN и SIC на характеристики покрытийru_RU
dc.typeArticleru_RU
Appears in Collections:2013 год

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
38. Ястребинский.pdf374.78 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.