BSTU DSpace logo

  1. Электронный архив открытого доступа БГТУ им. В.Г.Шухова
  2. Вестник БГТУ им. В.Г. Шухова
  3. 2013 год
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1788
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorНарцев, В. М.-
dc.contributor.authorАгеева, М. С.-
dc.contributor.authorПрохоренков, Д. С.-
dc.contributor.authorЗайцев, С. В.-
dc.contributor.authorКарацупа, С. В.-
dc.contributor.authorВащилин, В. С.-
dc.date.accessioned2018-10-02T11:46:44Z-
dc.date.available2018-10-02T11:46:44Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.urihttp://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1788-
dc.descriptionВлияния условий осаждения высококачественны-х ALN и SIC на характеристики покрытий / Нарцев В. М. и [др.] // Вестник БГТУ им. В. Г. Шухова. - №6. - С. 168-172.ru_RU
dc.description.abstractВ работе на базе оборудования Центра высоких технологий (ЦВТ) БГТУ им. В.Г. Шухова были проведены первичные исследования влияния условий осаждения из магнетронной плазмы покрытий на их основные характеристики. Установлено, что увеличение доли О2 ведет к уменьшению скорости осаждения. Шероховатость покрытий закономерно увеличивается при снижении общего давления из-за более интенсивной кристаллизации и удаления подложки от мишени из-за формирования островковой структуры.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherИздательство БГТУ им. В.Г. Шуховаru_RU
dc.subjectмикроэлектронникаru_RU
dc.subjectЦВТ БГТУ им. В.Г. Шуховаru_RU
dc.subjectтонкие пленки АlN и SiСru_RU
dc.subjectсканирующий электронный микроскопru_RU
dc.titleВлияния условий осаждения высококачественных ALN и SIC на характеристики покрытийru_RU
dc.typeArticleru_RU
Располагается в коллекциях:2013 год

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
38. Ястребинский.pdf374.78 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.