BSTU DSpace logo

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1108
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorНарцев, В. М.-
dc.contributor.authorАгеева, М. С.-
dc.contributor.authorПрохоренков, Д. С.-
dc.contributor.authorЗайцев, С. В.-
dc.contributor.authorКарацупа, С. В.-
dc.contributor.authorВащилин, В. С.-
dc.date.accessioned2018-06-19T13:48:58Z-
dc.date.available2018-06-19T13:48:58Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.urihttp://dspace.bstu.ru/jspui/handle/123456789/1108-
dc.descriptionВлияния условий осаждения высококачественных АLN и SIС на характеристики покрытий / В. М. Нарцев [и др.] // Вестник БГТУ им. В. Г. Шухова. - 2013. - № 6. - С. 168-172.ru_RU
dc.description.abstractВ работе на базе оборудования Центра высоких технологий (ЦВТ) БГТУ им. В.Г. Шухова были проведены первичные исследования влияния условий осаждения из магнетронной плазмы покрытий на их основные характеристики. Установлено, что увеличение доли О2 ведет к уменьшению скорости осаждения. Шероховатость покрытий закономерно увеличивается при снижении общего давления из-за более интенсивной кристаллизации и удаления подложки от мишени из-за формирования островковой структуры.ru_RU
dc.language.isootherru_RU
dc.publisherИздательство БГТУ им. В. Г. Шуховаru_RU
dc.subjectАвторы БГТУru_RU
dc.subjectмикроэлектроникаru_RU
dc.subjectЦВТ БГТУ им. В.Г. Шуховаru_RU
dc.subjectтонкие пленки АlN и SiСru_RU
dc.subjectсканирующий электронный микроскопru_RU
dc.subjectрентгеновский дифрактометрru_RU
dc.subjectмагнетронные распылительные установкиru_RU
dc.titleВлияния условий осаждения высококачественных АLN и SIС на характеристики покрытийru_RU
dc.typeArticleru_RU
Располагается в коллекциях:2013 год

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
39. Нарцев.pdf576.46 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.